半导体恒温浴 热电恒湿槽 ARB320

奥冷再循环液体浴设计用于为各种液体溶液提供冷却和加热. 浴槽精确控制恒温槽中的流体温度. 客户可以通过在容器中放置容器来控制温度. 使用Peltier设备(正负0.01摄氏度)可以精确控制冷却和加热.

特点:
快速冷却和加热,温度精确
操作简便
环保无制冷剂
安静可
编程数字温度控制器/ PID控制条件自动调节
系统错误监控和报警
流体入口和出口 快速断开
高可靠性

典型应用:
夹套反应器容器
大型旋转蒸发器
反应量热法
发酵
分析仪器冷却

型号:ARB320-01
控制方式:冷却/加热自动PID控制

热辐射:帕尔贴元件(液冷)

工作温度:0~60℃(水≥4℃)

温度稳定性:±0.04℃
温度分配:±0.04℃
制冷能力:320W @T-bath=25℃;T-facility=25℃
加热能力:
箱内液体:水 4-60℃,乙二醇 - 水(≤50％)0-60℃